株式会社ヒーティングスクエアは、2024年4月に設立された半導体製造用機械メーカーで、蔚山広域市に本社を置いています。この会社は、半導体およびディスプレイ分野の主要部品である高性能セラミックヒーターを専門的に開発・製造しています。

"ヒーティングスクエアは、次世代高性能セラミックヒーター事業を目的として2024年に設立された技術中心のセラミックヒーター専門企業です。UNIST（蔚山科学技術院）の優れた研究能力を基盤として設立され、半導体プロセスの未来をリードする熱制御技術企業として成長しています。"

事業分野

• 半導体およびディスプレイプロセス用ヒーティングソリューション供給: 半導体ウェーハ加工時に超精密な温度均一性を維持しながら加熱する主要部品である高性能セラミックヒーターを製造し、国内外の半導体装置メーカーに供給しています。
• 次世代半導体プロセス最適化ヒーティングソリューション開発: 国家研究課題の遂行を通じて、次世代半導体プロセスに最適化されたカスタマイズヒーティングソリューションを開発し、B2B市場内での影響力を拡大しています。

生産品

• 高性能フォトプロセス用セラミックヒーター: 半導体ウェーハ加工時に超精密な温度均一性を維持しながら加熱する主要部品で、ヒーティングスクエア独自の炭化ケイ素（SiC）絶縁膜技術が適用された先端製品です。
• 多様なセラミックヒーター製品群: Photo Bake Heater、Vacuum Furnace Heater、In-line Tube Heater、TC Bonder Heaterなど、半導体プロセスに必要な多様な種類のセラミックヒーターを提供します。
• 半導体積層急速昇降温セラミックヒーター: 特に後工程パッケージングに使用される急速昇降温セラミックヒーターの開発を通じて、半導体産業の技術発展に貢献しています。

特記事項

• 独自の技術力に基づく国産化をリード: 日本企業が長期独占しているセラミックヒーター市場において、独自の炭化ケイ素（SiC）ベース技術を通じて国産化を積極的にリードしています。
• 優れた研究開発能力と政府支援: UNISTの研究能力を基盤として設立され、中小ベンチャー企業部TIPSプログラムに選定され、研究開発および事業化資金を確保するなど、技術的価値を認められました。
• 顧客志向のカスタマイズソリューション提供: 徹底した顧客志向の考え方に基づき、部門別の主要専門人材と共に新たな半導体技術革命と未来事業を準備し、顧客企業のコスト削減と工程効率向上を支援します。

採用情報

• 主な採用職種: 主に半導体部品の生産技術・生産管理、半導体部品製造の生産職、半導体部品の研究開発、半導体部品（セラミック部分）の技術営業職を募集しています。
• 福利厚生: 賞与、成果給、昼食支援、ストックオプション、自由な休暇文化、飲み物・軽食提供、夕食支援、長期勤続表彰、祝日ギフト・祝日賞与、水平的文化などの福利厚生を提供します。

💡 JobPloyから一言
株式会社ヒーティングスクエアは、半導体製造用機械製造分野において高性能セラミックヒーターの国産化をリードする技術中心の中小企業です。主に生産技術、生産管理、研究開発、技術営業の職務で外国人労働者を採用する可能性があり、半導体プロセス用部品の製造および管理に関する理解と細心さが重要です。会社は成長段階にあり、新しい技術開発に参加し貢献する機会が多くあるかもしれません。